[发明专利]一种低辐射透明电加热薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种低辐射透明电加热薄膜及其制备方法。所述制备方法包括如下步骤：(1)在导电衬底上制备龟裂模板；(2)采用电镀法在所述龟裂模板的裂隙中沉积金属；(3)去除所述龟裂模板，得到所述导电衬底与金属网格的复合结构，即为所述低辐射透明电加热薄膜。本发明低辐射透明电加热薄膜具有低辐射性能，同时在可见光波长范围内具有良好的透光性。本发明低辐射透明导电加热薄膜具有超强的导电性，作为电加热薄膜，提供很小的加热电压即可获得很高的稳态温度和很快的加热速率；例如本发明具体实施例2制备的低辐射透明导电加热薄膜，在提供5V偏压的情况下，其加热速率可达到7.7℃/s，最高温度可达到100℃以上。

主权项

1.一种低辐射透明电加热薄膜的制备方法，包括如下步骤：(1)在导电衬底上制备龟裂模板；将龟裂液采用刮涂法在所述导电衬底的表面进行涂布形成龟裂薄膜，然后于空气中干燥自发龟裂形成所述龟裂模板；所述刮涂法的步骤如下：将所述导电衬底固定于刮涂机的工作面板上，将线棒固定于所述导电衬底的表面；在所述线棒的前端滴加所述龟裂液，控制所述线棒前行，进而将所述龟裂液涂布于所述导电衬底的表面；所述导电衬底由衬底和沉积于其表面上的低辐射透明导电薄膜组成；所述低辐射透明导电薄膜为依次沉积的金属氧化物薄膜或金属氧化物薄与超薄金属膜的复合膜；所述金属氧化物膜的材质为宽带隙半导体；所述超薄金属膜的材质为Ag、Al或Pt；所述超薄金属膜的厚度小于30nm；(2)采用电镀法在所述龟裂模板的裂隙中沉积金属；所述电镀法的条件如下：电解液为镀金液、镀银液或镀铜液；阳极为钛铱电极；阴极为表面覆盖所述龟裂模版的导电衬底；电源为直流恒流源；在所述直流恒流源输出的电流为0.01～0.1A的条件下电镀1～15min；(3)去除所述龟裂模板，得到所述导电衬底与金属网格的复合结构，即为所述低辐射透明电加热薄膜。