[发明专利]一种阵列基板、其制备方法及显示面板有效
申请号: | 201710525619.8 | 申请日: | 2017-06-30 |
公开(公告)号: | CN107275347B | 公开(公告)日: | 2020-06-23 |
发明(设计)人: | 韦东梅;何小祥;童振霄 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L29/423;H01L21/84;H01L21/28 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭润湘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种阵列基板、其制备方法及显示面板,该阵列基板包括:依次位于衬底基板上的栅极、有源层、源极和漏极;还包括:挡光层;所述有源层在所述衬底基板上的正投影与所述挡光层在所述衬底基板上的正投影以及所述栅极在所述衬底基板上的正投影均有交叠;有源层在衬底基板上的正投影位于挡光层与栅极在衬底基板上的正投影区域内;栅极在衬底基板上的正投影面积小于有源层在衬底基板上的正投影面积。这样可以降低栅极与源漏电极之间的寄生电容,同时通过栅极与挡光层遮挡有源层,避免有源层因感光而产生光漏电的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 阵列 制备 方法 显示 面板 | ||
【主权项】:
一种阵列基板,包括:依次位于衬底基板上的栅极、有源层、源极和漏极;其特征在于,还包括:挡光层;所述有源层在所述衬底基板上的正投影与所述挡光层在所述衬底基板上的正投影以及所述栅极在所述衬底基板上的正投影均有交叠;所述有源层在所述衬底基板上的正投影位于所述挡光层与所述栅极在所述衬底基板上的正投影区域内;所述栅极在所述衬底基板上的正投影面积小于所述有源层在所述衬底基板上的正投影面积。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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