[发明专利]一种阵列基板、其制备方法及显示面板有效

专利信息
申请号: 201710525619.8 申请日: 2017-06-30
公开(公告)号: CN107275347B 公开(公告)日: 2020-06-23
发明(设计)人: 韦东梅;何小祥;童振霄 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L29/423;H01L21/84;H01L21/28
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种阵列基板、其制备方法及显示面板,该阵列基板包括:依次位于衬底基板上的栅极、有源层、源极和漏极;还包括:挡光层;所述有源层在所述衬底基板上的正投影与所述挡光层在所述衬底基板上的正投影以及所述栅极在所述衬底基板上的正投影均有交叠;有源层在衬底基板上的正投影位于挡光层与栅极在衬底基板上的正投影区域内;栅极在衬底基板上的正投影面积小于有源层在衬底基板上的正投影面积。这样可以降低栅极与源漏电极之间的寄生电容,同时通过栅极与挡光层遮挡有源层,避免有源层因感光而产生光漏电的问题。
搜索关键词: 一种 阵列 制备 方法 显示 面板
【主权项】:
一种阵列基板,包括:依次位于衬底基板上的栅极、有源层、源极和漏极;其特征在于,还包括:挡光层;所述有源层在所述衬底基板上的正投影与所述挡光层在所述衬底基板上的正投影以及所述栅极在所述衬底基板上的正投影均有交叠;所述有源层在所述衬底基板上的正投影位于所述挡光层与所述栅极在所述衬底基板上的正投影区域内;所述栅极在所述衬底基板上的正投影面积小于所述有源层在所述衬底基板上的正投影面积。
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