[发明专利]一种延长粗抛光液使用寿命的硅片抛光方法在审
| 申请号： | 201710527808.9 | 申请日： | 2017-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN107344304A | 公开（公告）日： | 2017-11-14 |
| 发明（设计）人： | 王广勇;刘园;石明;王刚;郭红慧;杨金波;谭永麟;孙晨光 | 申请（专利权）人： | 天津中环领先材料技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B29/02 |
| 代理公司： | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司12211 | 代理人： | 李纳 |
| 地址： | 300384 天津市滨海新区*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明创造提供了一种延长粗抛光液使用寿命的硅片抛光方法，采用单面有蜡抛光工艺对硅片进行抛光，在粗抛光过程中，控制粗抛光液流量在9～11L/min，大盘转速在22～28r/min，中心导轮转速在52～58r/min，抛光头压力在150～250kPa。本发明创造通过改善粗抛光工艺参数，可以增大粗抛光去除速率，将降低单位时间内粗抛光液内有效成分的消耗，进而延长粗抛光液的使用寿命，降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 延长 抛光 使用寿命 硅片 方法 | ||
【主权项】：
一种延长粗抛光液使用寿命的硅片抛光方法，采用单面有蜡抛光工艺对硅片进行抛光，其特征在于：在粗抛光过程中，控制粗抛光液流量在9～11L/min，大盘转速在22～28r/min，中心导轮转速在52～58r/min，抛光头压力在150～250kPa。
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