[发明专利]一种具有宽带减反射作用的柔性水氧阻隔膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种柔性透明水氧阻隔膜及其制备方法，该柔性透明水氧阻隔膜位于柔性透明基底以上；所述阻隔膜具有宽带减反射作用。所述阻隔膜为多层结构，所述阻隔膜中各层的厚度在10nm至400nm范围内，所述阻隔膜的总层数在2至20层范围内。本发明通过采用薄膜光学理论中多层宽带减反射膜设计方法设计阻隔膜的膜系机构，利用薄膜沉积工艺将所述阻隔膜沉积在柔性透明基底上，制备得到了一种兼顾阻隔性能、弯曲性能和光学性能，且工艺成本低的具有宽带减反射作用的柔性水氧阻隔膜，由此解决现有技术缺乏一种应用于柔性透明光电器件的既具有阻隔性能满足光学性能要求的水氧阻隔膜的技术问题。

主权项

1.一种柔性透明水氧阻隔膜，其特征在于：所述柔性透明水氧阻隔膜位于柔性透明基底以上；所述阻隔膜具有宽带减反射作用；所述阻隔膜的CIE色坐标的纵坐标值与标准白光的CIE色坐标的纵坐标值的之差的绝对值不超过0.1％，所述阻隔膜的CIE色坐标的横坐标值与标准白光的CIE色坐标的横坐标值的之差的绝对值不超过0.1％；所述柔性透明水氧阻隔膜的制备方法，包括如下步骤：(1)选定柔性透明基底、阻隔膜的膜材种类以及薄膜沉积工艺，使得所述柔性透明基底的玻璃化转变温度高于所述薄膜沉积工艺的工作温度，所述阻隔膜的膜材至少为两种，所述柔性透明基底的折射率介于所述阻隔膜选用的膜材的最高折射率与最低折射率之间；(2)标定步骤(1)所述的薄膜沉积工艺的沉积速率、所述柔性透明基底的光学常数以及所述薄膜沉积工艺沉积制得的薄膜的光学常数；所述光学常数包括折射率n和消光系数k；(3)确定目标宽带范围以及阻隔膜的层数，所述阻隔膜至少为两层，根据所述目标宽带范围、由所述目标宽带范围确定的参考波长、所述膜材种类、所述阻隔膜的层数以及步骤(2)标定的光学常数，调整每一层厚度的上限值和下限值，使得最终设计得到的具有多层结构的阻隔膜的总厚度不低于80nm，且不高于3微米，同时使该阻隔膜与所述柔性透明基底构成的复合膜在所述目标宽带范围内的透光率的最高值与最低值之差不超过4.2％，该复合膜在所述目标宽带范围内的绝对透光率不低于85％；所述阻隔膜与所述柔性透明基底构成的复合膜在430～730nm波段的最高透光率与最低透光率之差不大于4.2％；(4)采用所述薄膜沉积工艺按照步骤(2)所述沉积速率将步骤(3)所述设计得到的具有多层结构的阻隔膜沉积在所述柔性透明基底上，得到具有宽带减反射作用的柔性透明水氧阻隔膜。