[发明专利]一种计算全息基底刻蚀误差的在位标定方法

摘要

本发明公开了一种计算全息基底刻蚀误差在位标定方法。该方法可在计算全息检测非球面的光路条件下，保持计算全息光路位置不变，实现计算全息基底刻蚀误差的在位标定。具体光路结构为将待测的非球面替换成球面镜，并在计算全息与球面镜加入补偿器，对系统球差进行补偿。在计算全息进行刻蚀加工之前，将该平行平板基底放入光路中进行第一次检测；在计算全息基板完成全息刻蚀加工之后，再将计算全息放入光路中进行第二次检测，两次检测结果之差即为标定得到的计算全息基底刻蚀误差。该方法突破了现有在位标定技术中非球面的F数限制问题，且标定精度并不受限于补偿器的制作精度水平和待测球面的面形质量，无需对补偿器和待测球面面形误差进行标定。

主权项

1.一种计算全息基底刻蚀误差在位标定方法，其特征在于：所述方法采用的器件包括：干涉仪(1)、标准镜头(2)、计算全息基底平行平板(3)、计算全息(4)、补偿器(5)和球面镜(6)，来自干涉仪(1)的光束经过标准镜头(2)，入射到刻蚀加工前的计算全息基底平行平板(3)或计算全息(4)上，然后经过补偿器(5)，入射到球面镜(6)上，所述方法具体实现步骤如下：第一步，将刻蚀前的计算全息基底平行平板(3)放入计算全息标定光路中，测量结果W₁包括计算全息基底平行平板误差W_sub、补偿器误差和被测球面镜的误差W_sphere，即：第二步，将刻蚀完成后的计算全息(4)放入计算全息标定光路中，测量结果W₂包括计算全息误差W_cgh、补偿器误差和被测球面镜的误差W_sphere，即：第三步，将以上两次测量结果相减，可得到计算全息的基底刻蚀误差，即：