[发明专利]多光谱显微成像系统及显微镜在审
| 申请号： | 201710537502.1 | 申请日： | 2017-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN107193118A | 公开（公告）日： | 2017-09-22 |
| 发明（设计）人： | 戴琼海;陈星晔;谢浩 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G02B21/36 | 分类号： | G02B21/36 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人： | 张润 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多光谱显微成像系统及显微镜，包括放大装置，用于放大待测样片被激发出的光，其中，放大装置与待测样片之间的距离不大于预定距离；空域掩模，空域掩模设置在放大装置的一侧且与放大装置的距离为能够使经过放大装置放大的光的全部信息均照射在空域掩模上；双透镜4f系统，所述双透镜4f系统的设置在所述空域掩模的一侧，所述双透镜4f系统与所述空域掩模的距离为一个焦距的距离；光栅，所述光栅设置在所述双透镜4f系统的傅里叶面上；采集装置，所述采集装置设置在所述双透镜4f系统的一侧，所述采集装置用于采集光谱信息。本发明可以显著提高多光谱显微成像的速率，同时，也能够有效地提升光效率，使拍到的照片质量显著提升。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱 显微 成像 系统 显微镜 | ||
【主权项】：
一种多光谱显微成像系统，其特征在于，包括：放大装置，用于放大待测样片被激发出的光，其中，所述放大装置与待测样片之间的距离不大于预定距离；空域掩模，所述空域掩模设置在所述放大装置的一侧且与所述放大装置的距离为能够使经过所述放大装置放大的光的全部信息均照射在所述空域掩模上；双透镜4f系统，所述双透镜4f系统设置在所述空域掩模的一侧，所述双透镜4f系统与所述空域掩模的距离为一个焦距的距离；光栅，所述光栅设置在所述双透镜4f系统的傅里叶面上；采集装置，所述采集装置设置在所述双透镜4f系统的一侧，所述采集装置用于采集光谱信息。
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