[发明专利]阵列基板的制作方法

摘要

本发明公开一种阵列基板的制作方法，包括在基板上形成栅极；在基板的朝向栅极的一侧形成栅极绝缘层，栅极绝缘层覆盖栅极；在栅极绝缘层的远离栅极的一侧依次沉积铟镓锌锡氧化物层和铟镓锌氧化物层；通过第一黄光制程图案化铟镓锌氧化物层和铟镓锌锡氧化物层，以形成保护层和有源层，保护层覆盖有源层；在保护层的远离有源层的一侧沉积金属层；通过第二黄光制程图案化金属层和保护层，以形成源极、漏极以及隔离区，源极和漏极彼此间隔且分别连接于有源层的两端，隔离区形成在保护层上且位于源极与漏极之间。通过上述阵列基板的制作方法所形成的阵列基板的器件性能良好。

主权项

一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：在基板上形成栅极；在所述基板的朝向所述栅极的一侧形成栅极绝缘层，所述栅极绝缘层覆盖所述栅极；在所述栅极绝缘层的远离所述栅极的一侧依次沉积铟镓锌锡氧化物层和铟镓锌氧化物层；通过第一黄光制程图案化所述铟镓锌氧化物层和所述铟镓锌锡氧化物层，以形成保护层和有源层，所述保护层覆盖所述有源层；在所述保护层的远离所述有源层的一侧沉积金属层；以及通过第二黄光制程图案化所述金属层和所述保护层，以形成源极、漏极以及隔离区，所述源极和所述漏极彼此间隔且分别连接于所述有源层的两端，所述隔离区形成在所述保护层上且位于所述源极与所述漏极之间。