[发明专利]基于磁控形状记忆效应的箔片端面气膜密封结构有效

专利信息
申请号: 201710544611.6 申请日: 2017-07-06
公开(公告)号: CN107269848B 公开(公告)日: 2018-10-23
发明(设计)人: 彭旭东;陈源;江锦波;孟祥铠;李纪云 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: F16J15/40 分类号: F16J15/40
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人: 王兵;黄美娟
地址: 310014 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 基于磁控形状记忆效应的箔片端面气膜密封结构,包括气膜密封的动环和静环;带箔片端面的密封环包括圆环状的环本体1、扇形磁控形状记忆合金块2、环形箔片3,环本体的圆环形凹面上开有若干个依照旋转中心对称分布的扇形槽11,每个扇形槽11中放入与扇形槽间隙配合的扇形磁控形状记忆合金块2;环形箔片3分为外环形箔片31和内环形箔片32,内环形箔片32的下表面与扇形磁控形状记忆合金块的上表面接触,内环形箔片32的上表面为楔形面,楔形面的内圆周面在密封处于静止状态时低于密封坝平面,而在密封处于运行状态时受磁控形状记忆合金块2的形变作用产生微米级振幅的高频颤振,并在振幅最大时与密封坝平面齐平,楔形面的外圆周面始终低于密封坝平面。
搜索关键词: 基于 形状 记忆 效应 端面 密封 结构
【主权项】:
1.基于磁控形状记忆效应的箔片端面气膜密封结构,包括气膜密封的动环和静环;所述动环或静环中至少一个密封环的密封端面是箔片端面,带箔片端面的密封环包括圆环状的环本体(1)、扇形磁控形状记忆合金块(2)、环形箔片(3),环本体外侧下凹形成圆环形凹面,环本体内侧凸起形成圆环台阶,所述圆环台阶的上表面形成密封坝(12),所述圆环形凹面上开有若干个依照旋转中心对称分布的扇形槽(11),每个扇形槽(11)中放入与扇形槽(11)间隙配合的扇形磁控形状记忆合金块(2),所述扇形磁控形状记忆合金块(2)沿轴向的厚度大于所述扇形槽(11)的深度;所述环形箔片(3)分为外环形箔片(31)和内环形箔片(32),所述内环形箔片(32)沿周向均匀分割成与扇形槽数目相同且对应布置的扇形箔块(33);所述外环形箔片(31)通过螺钉(4)与环本体(1)固定,固定后的内环形箔片(32)的下表面刚好与扇形磁控形状记忆合金块(2)的上表面接触,所述内环形箔片(32)的上表面为楔形面,所述楔形面的内圆周面在密封处于静止状态时低于密封坝(12)平面,而在密封处于运行状态时受扇形磁控形状记忆合金块(2)的形变作用产生微米级振幅的高频颤振,并在振幅最大时与密封坝平面齐平,所述楔形面的外圆周面始终低于密封坝平面。
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