[发明专利]大方坯二冷压下凸足辊结构和压下工艺有效
申请号: | 201710546476.9 | 申请日: | 2017-07-06 |
公开(公告)号: | CN107262689B | 公开(公告)日: | 2019-02-19 |
发明(设计)人: | 谢鑫;吴国荣;马晓涛;曾建华 | 申请(专利权)人: | 攀钢集团攀枝花钢铁研究院有限公司 |
主分类号: | B22D11/12 | 分类号: | B22D11/12 |
代理公司: | 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 | 代理人: | 张竞 |
地址: | 617000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种大方坯二冷压下凸足辊结构和压下工艺,特别是一种涉及钢铁冶金技术领域的大方坯二冷压下凸足辊结构和压下工艺。本发明的大方坯二冷压下凸足辊结构,包括压下区上足辊和压下区下足辊,所述压下区下足辊位于压下区上足辊的下方,所述压下区上足辊中部设置有凸台,所述压下区下足辊中部设置有凸台,所述压下区下足辊的凸台比压下区上足辊的凸台长。本发明的大方坯二冷压下区压下工艺,设置多组压下区上足辊和压下区下足辊,所述压下区上足辊的压下量在拉坯方向逐渐增加。本申请可以有效解决大方坯连铸坯中心偏析和中心疏松问题。 | ||
搜索关键词: | 压下 足辊 大方坯 冷压 下凸 凸台 下区 连铸坯中心 钢铁冶金 有效解决 中心疏松 逐渐增加 比压 拉坯 偏析 申请 | ||
【主权项】:
1.大方坯二冷压下凸足辊结构,包括压下区上足辊(1)和压下区下足辊(2),所述压下区下足辊(2)位于压下区上足辊(1)的下方,其特征在于:所述压下区上足辊(1)中部设置有凸台(3),所述压下区下足辊(2)中部设置有凸台(3),所述压下区下足辊(2)的凸台(3)比压下区上足辊(1)的凸台(3)长。
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