[发明专利]一种可用于去毛刺的去胶剂、其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201710548066.8 申请日: 2017-07-06
公开(公告)号: CN107805550B 公开(公告)日: 2020-12-15
发明(设计)人: 王溯;蔡进;于仙仙;马伟 申请(专利权)人: 上海新阳半导体材料股份有限公司
主分类号: C11D1/14 分类号: C11D1/14;C11D1/22;C11D1/34;C11D1/66;C11D3/04;C11D3/10;C11D3/20;C11D3/22;C11D3/28;C11D3/30;C11D3/33;C11D3/34;C11D3/43;C11D3/60;H01
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 薛琦;袁红
地址: 201616 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种可用于去毛刺的去胶剂、其制备方法和应用。本发明的去胶剂的制备方法,其包括下列步骤:其包括下列步骤:将下述去胶剂的原料混合,即可;所述的原料包括下列质量分数的组分:20%‑70%的溶剂、10%‑50%有机胺、0.01%‑50%还原剂、0.01%‑5%无机碱、0.01%‑10%表面活性剂和水,各组分质量分数之和为100%;所述去胶剂的pH值为7.5‑13.5。本发明的制备方法制得的去胶剂寿命长,可在3个月内循环重复使用;可单独去除tape胶或溢料,或者同时去除tape胶和溢料,并减少后续电镀工艺的锡毛刺的产生;对塑封体和基材无损伤。
搜索关键词: 一种 用于 毛刺 去胶剂 制备 方法 应用
【主权项】:
一种去胶剂的制备方法,其特征在于,其包括下列步骤:将下述去胶剂的原料混合,即可;所述的原料包括下列质量分数的组分:20%‑70%的溶剂、10%‑50%有机胺、0.01%‑50%还原剂、0.01%‑5%无机碱、0.01%‑10%表面活性剂和水,各组分质量分数之和为100%;所述去胶剂的pH值为7.5‑13.5。
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