[发明专利]闪存单元、闪存单元的编程方法及闪存单元的擦除方法有效
申请号: | 201710553102.X | 申请日: | 2017-07-07 |
公开(公告)号: | CN107342290B | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 徐涛 | 申请(专利权)人: | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | H01L27/11524 | 分类号: | H01L27/11524;H01L27/11529;G11C16/14;G11C16/10 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种闪存单元、闪存单元的编程方法及闪存单元的擦除方法,所述闪存单元包括形成有N阱的P型衬底和所述N阱上的栅极结构,所述栅极结构包括第一存储位和第二存储位,所述第一存储位和所述第二存储位共享一个字线栅,本发明提供的闪存单元编程功耗低,读取速度快,存储的状态更多。通过在闪存单元的控制栅施加正电压,在位线上施加负电压,从而达到编程的操作,本发明提供的闪存单元的编程方法可以选择编程的存储位,也可以对两个存储位同时进行编程。通过在字线栅上施加正电压,在两个存储位的控制栅上施加负电压,快速擦除信息,所述字线栅的结构产生增强型电子隧穿效应,使用较低的电压就可实现快速擦除的目的。 | ||
搜索关键词: | 闪存 单元 编程 方法 擦除 | ||
【主权项】:
一种闪存单元,其特征在于,所述闪存单元包括:P型衬底,所述P型衬底内形成有N阱,所述N阱中形成有P型掺杂区,所述P型掺杂区作为源极和漏极,所述N阱的P型掺杂区上形成有第一位线和第二位线,所述源极与所述第一位线连接,所述漏极与所述第二位线连接;位于所述N阱上的栅极结构,所述栅极结构包括第一存储位、第二存储位和字线栅,所述第一存储位包括第一控制栅和第一浮栅,所述第二存储位包括第二控制栅和第二浮栅;所述第一存储位、所述字线栅和所述第二存储位依次并排排列在所述源极和所述漏极之间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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