[发明专利]一种精准靶向射孔技术在审

专利信息
申请号: 201710553792.9 申请日: 2017-07-09
公开(公告)号: CN107100597A 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 禹栽星;杨爱军;王殿庆;宋波;张国杰;张敏;李连平;李斌;李作平 申请(专利权)人: 大庆金祥寓科技有限公司
主分类号: E21B43/116 分类号: E21B43/116;E21B43/119
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 163000 黑龙江省大*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 发明涉及一种精准靶射孔技术,主要解决大断层、薄差层、斜井、水平井等特殊构造井的精准开发,其特征在于靶向弹架(4)的第一个座弹孔(5)、第二个座弹孔(6)、第三个座弹孔(7),第四个座弹孔(8),第n‑1个座弹孔(9),第n个座弹孔(10)都可以0‑45度调角,调角精度±1°;射孔器的方位调向都可以0‑360度调向,调向精度±1°。有益效果本发明提出的一种精准靶向射孔技术,不仅提高了射孔完井和增产改造效果及作业效率,而且通过合理保护储集层,延长了油气藏开发寿命。
搜索关键词: 一种 精准 靶向 技术
【主权项】:
一种精准靶向射孔技术,包括定位销键(1),定位中接(2),定位盘(3),靶向弹架(4),第一个座弹孔(5),第二个座弹孔(6),第三个座弹孔(7),第四个座弹孔(8),第n‑1个座弹孔(9),第n个座弹孔(10),射孔弹(11),射孔枪身(12),尾盘(13)组成;其特征在于:所述的靶向弹架(4)的第一个座弹孔(5)、第二个座弹孔(6)、第三个座弹孔(7),第四个座弹孔(8),第n‑1个座弹孔(9),第n个座弹孔(10)都可以0‑45度调角,调角精度±1°;射孔器的方位调向可以在0‑360度调向,调向精度±1°。
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