[发明专利]后处理装置及记录装置有效
| 申请号： | 201710555619.2 | 申请日： | 2017-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN107618924B | 公开（公告）日： | 2020-01-07 |
| 发明（设计）人： | 儿玉秀俊;原田裕太朗;足立裕尚 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | B65H29/52 | 分类号： | B65H29/52;B65H31/00;B41J2/01 |
| 代理公司： | 11240 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 张永明;玉昌峰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供后处理装置及记录装置，能够更适当地抑制被记录的记录介质的变形而进行处理。后处理装置具备：后处理部，进行被记录的记录介质的后处理；变形抑制单元，抑制在输送所述记录介质的输送路径、或载置记录介质的载置部中的记录介质的变形，变形抑制单元基于与对于记录介质的记录处理相关的预定的参数而被控制。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 记录 | ||
【主权项】：
1.一种后处理装置，其特征在于，具备：/n导入部，从打印机导入由该打印机利用水性墨记录的记录介质；/n后处理部，对从所述打印机导入的记录介质至少进行装订处理；/n载置部，载置将由所述后处理部进行后处理的记录介质；/n排出部，配置在所述载置部，排出通过所述后处理部进行后处理的记录介质；/n变形抑制单元，抑制在所述载置部中的所述记录介质因预定的参数而导致的变形，所述预定的参数是与对于所述记录介质的记录处理相关的参数；以及/n控制部，控制所述变形抑制单元，/n所述控制部与控制所述记录处理的打印机控制部关联来接收所述预定的参数，并基于所述预定的参数来控制所述变形抑制单元，/n在从所述打印机控制部接收的所述预定的参数中包含与在所述记录介质进行记录时使用的记录数据相关的信息。/n
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