[发明专利]一种高纯度沉淀水合二氧化硅的制备方法在审
申请号: | 201710561543.4 | 申请日: | 2017-07-11 |
公开(公告)号: | CN107176611A | 公开(公告)日: | 2017-09-19 |
发明(设计)人: | 杨万科;陈君华;李启明;杨妍 | 申请(专利权)人: | 蚌埠市万科硅材料科技有限公司 |
主分类号: | C01B33/12 | 分类号: | C01B33/12;B82Y30/00;B01F17/00 |
代理公司: | 安徽信拓律师事务所34117 | 代理人: | 张加宽 |
地址: | 233400 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种高纯度沉淀水合二氧化硅的制备方法,涉及硅材料技术领域,本发明以常规原料硅酸钠、硫酸为原料制备沉淀水合二氧化硅,其中分散助剂的使用有助于加快反应进程,从而制得粒径分布在30‑50nm、白度在98.5%以上的沉淀水合二氧化硅,且其纯度达到99.98%以上;同时所制沉淀水合二氧化硅在应用于塑料、橡胶或其他领域时具有优异的分散性,从而发挥其使用性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 纯度 沉淀 水合 二氧化硅 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种高纯度沉淀水合二氧化硅的制备方法,其特征在于:主要包括如下步骤:(1)向反应釜中加入水和分散助剂,搅拌使分散助剂溶解完全后静置5‑10min,再于搅拌下缓慢滴加35wt%硅酸钠水溶液,保持硅酸钠水溶液的滴加速度在5‑10mL/min,硅酸钠水溶液滴加结束后以5‑10℃/min的升温速度升温至80‑85℃,并于保温下滴加5wt%稀硫酸溶液,保持稀硫酸溶液的滴加速度在1‑5mL/min,稀硫酸溶液滴加结束后继续搅拌5‑10min,即得反应液;(2)将步骤(1)所得反应液继续于80‑85℃下保温静置30‑60min,再滴加5wt%稀硫酸溶液调节pH值至3‑4;(3)过滤,所得沉淀物采用去离子水水洗,直至pH值达到7‑8,然后转入140‑145℃条件下烘干,最后经粉碎后过筛,即得沉淀水合二氧化硅。
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