[发明专利]光刻图案化的方法有效
| 申请号： | 201710565649.1 | 申请日： | 2017-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN108227409B | 公开（公告）日： | 2022-11-11 |
| 发明（设计）人： | 赖韦翰;王建惟;林进祥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 冯志云;王芝艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 光刻图案化的方法包括形成光致抗蚀剂层于基板上，其中光致抗蚀剂层包含聚合物、光敏剂、与光酸产生剂，其中光敏剂包含共振环，且共振环包含氮与至少一双键。方法亦包括对光致抗蚀剂层进行曝光工艺。方法亦包括显影光致抗蚀剂层以形成图案化的光致抗蚀剂层。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻图案化的方法，包括：形成一光致抗蚀剂层于一基板上，其中该光致抗蚀剂层包含一聚合物、一光敏剂、与一光酸产生剂，其中该光敏剂包含共振环，且共振环包含氮与至少一双键；对该光致抗蚀剂层进行一曝光工艺；以及显影该光致抗蚀剂层以形成一图案化的光致抗蚀剂层。
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