[发明专利]一种基于十元瓜环与[Cd4Cl16]8-的自组装多孔框架及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710566237.X 申请日: 2017-07-12
公开(公告)号: CN107337687B 公开(公告)日: 2019-04-26
发明(设计)人: 姚宇清;倪新龙;陶朱;祝黔江 申请(专利权)人: 贵州大学
主分类号: C07F3/08 分类号: C07F3/08;C09K11/06;B01J20/22;B01J20/28;B01J20/30
代理公司: 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 代理人: 郭防;石诚
地址: 550025 贵*** 国省代码: 贵州;52
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摘要: 发明公开了一种基于十元瓜环与[Cd4Cl16]8‑的自组装多孔框架及其制备方法,是利用十元瓜环与[Cd4Cl16]8‑进行自组装形成三维多孔框架结构,所述自组装多孔框架的分子式为C60H222N40O92Cd4Cl18。本发明提供了一种基于十元瓜环与[Cd4Cl16]8‑的新的自组装多孔框架,扩展了十元瓜环的研究;该自组装多孔框架可用于制备荧光材料、用作污染乙腈处理剂,具有用途广的特点;同时,本发明的制备是在盐酸中常温常压制备,具有制备方法简单、快速的特点;此外,还具有制备成本低的特点。
搜索关键词: 自组装 制备 多孔框架 瓜环 框架结构 三维多孔 荧光材料 处理剂 可用 乙腈 盐酸 压制 污染 研究
【主权项】:
1.一种基于十元瓜环与[Cd4Cl16]8‑的自组装多孔框架,其特征在于:是利用十元瓜环与[Cd4Cl16]8‑进行自组装形成三维多孔框架结构,所述自组装多孔框架的分子式为C60H222N40O92Cd4Cl18;所述自组装多孔框架的制备方法包括如下步骤:a.将十元瓜环加入盐酸中,震荡,使其溶解,得A品;b.将CdCl2加入盐酸中,震荡,使其溶解,得B品;c.将A品与B品混合,至不再产生白色沉淀,过滤即可得到十元瓜环与[Cd4Cl16]8‑的自组装多孔框架。
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