[发明专利]新型晶圆减薄背面金属化工艺有效

专利信息
申请号: 201710569223.3 申请日: 2017-07-11
公开(公告)号: CN107369611B 公开(公告)日: 2020-03-17
发明(设计)人: 黄平;鲍利华 申请(专利权)人: 上海朕芯微电子科技有限公司
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;H01L21/78
代理公司: 上海助之鑫知识产权代理有限公司 31328 代理人: 余中燕
地址: 201499 上海市奉*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种新型晶圆减薄背面金属化工艺,包括在晶圆正面进行涂胶,然后进行深槽刻蚀,以形成划片道;在划片道中添加塑封料,使塑封料填满划片道;塑封料固化后在其表面贴膜;通过减薄工艺对晶圆背面进行减薄处理;对背面晶圆及塑封料进行刻蚀;在晶圆背面进行金属化处理,使晶圆背面和塑封料表面涂覆金属;最后通过物理或化学方法将塑封料从晶圆中剥离。本发明通过首先在晶圆表面进行深槽刻蚀形成划片道的方法,解决了传统工艺中通过砂轮进行划片导致划片道宽度较宽,晶圆使用面积低的技术问题。该种方法不仅可以减小划片道的宽度,提高晶圆使用率,而且不会受管芯形状控制,适用范围广。
搜索关键词: 新型 晶圆减薄 背面 金属化 工艺
【主权项】:
一种新型晶圆减薄背面金属化工艺,其特征在于,包括:步骤S1:首先在晶圆正面进行涂胶,然后在晶圆正面进行深槽刻蚀,以形成划片道;步骤S2:在划片道中添加塑封料,使塑封料填满划片道,并且塑封料在晶圆正面形成一定厚度;步骤S3:塑封料固化后在其表面贴膜;步骤S4:通过减薄工艺对晶圆背面进行减薄处理;步骤S5:对背面晶圆及塑封料进行刻蚀,且刻蚀处理过程中对晶圆的刻蚀速率高于对塑封料的刻蚀速率;步骤S6:在晶圆背面进行金属化处理,使晶圆背面和塑封料表面涂覆金属,且晶圆背面的金属层同塑封料上的金属层不相连;步骤S7:最后将塑封料从晶圆中剥离。
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