[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201710570204.2 | 申请日： | 2017-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN109251678A | 公开（公告）日： | 2019-01-22 |
| 发明（设计）人： | 李守田;尹先升;贾长征;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液包含氧化铈磨料低聚糖及pH调节剂。本发明还提供了一种采用上述配方的化学机械抛光液在二氧化硅介质表面抛光中的应用。采用上述配方的化学机械抛光液，能够保持低的缺陷度的同时显著提高氧化铈磨料对二氧化硅介质材料的抛光速率。 | ||
| 搜索关键词： | 化学机械抛光液 二氧化硅介质 氧化铈磨料 配方 表面抛光 抛光 低聚糖 缺陷度 应用 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液包含氧化铈磨料、低聚糖及pH调节剂。
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