[发明专利]一种显示基板的蒸镀装置、蒸镀设备及蒸镀方法在审
| 申请号： | 201710571114.5 | 申请日： | 2017-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN107190232A | 公开（公告）日： | 2017-09-22 |
| 发明（设计）人： | 唐凡;陈永胜 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种显示基板的蒸镀装置、蒸镀设备及蒸镀方法，该显示基板的蒸镀装置包括蒸镀源、调控机构与掩模板；所述调控机构可将所述蒸镀源喷射的入射角小于或等于预设入射角的蒸镀粒子进行过滤，并使入射角大于所述预设入射角的所述蒸镀粒子通过所述掩模板，且沉积在所述附着基板的目标位置。本发明可有效地减少蒸镀过程中产生的阴影图案，使得附着基板上的像素间距可设置得更小，可提高显示效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 显示 装置 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种显示基板的蒸镀装置，用于向附着基板表面蒸镀目标材料，其特征在于，其包括蒸镀源、调控机构与掩模板；其中，所述调控机构可将所述蒸镀源喷射的入射角小于或等于预设入射角的蒸镀粒子进行过滤，并使入射角大于所述预设入射角的所述蒸镀粒子通过所述掩模板，且沉积在所述附着基板的目标位置,所述入射角为所述蒸镀粒子的入射方向和与其对应的所述掩模板表面形成的锐角。
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