[发明专利]聚焦环更换方法有效

专利信息
申请号: 201710572034.1 申请日: 2017-07-13
公开(公告)号: CN107622935B 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 石泽繁 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种能够使生产率提高的聚焦环更换方法。该聚焦环更换方法在能够对被载置于在处理室的内部设置的载置台的基板进行等离子体处理的等离子体处理装置中使用,更换以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台的聚焦环,该聚焦环更换方法的特征在于,包括以下步骤:搬出步骤,不将所述处理室向大气开放就利用搬送所述聚焦环的搬送装置将所述聚焦环从所述处理室内搬出;清洁步骤,在所述搬出步骤之后,对所述载置台的要载置所述聚焦环的表面进行清洁处理;以及搬入步骤,在所述清洁步骤之后,不将所述处理室向大气开放就利用所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台,通过这样的聚焦环更换方法解决上述问题。
搜索关键词: 聚焦 更换 方法
【主权项】:
一种聚焦环更换方法,在能够对被载置于在处理室的内部设置的载置台的基板进行等离子体处理的等离子体处理装置中使用,更换以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台的聚焦环,该聚焦环更换方法的特征在于,包括以下步骤:搬出步骤,不将所述处理室向大气开放就利用搬送所述聚焦环的搬送装置来将所述聚焦环从所述处理室内搬出;清洁步骤,在所述搬出步骤之后,对所述载置台的要载置所述聚焦环的表面进行清洁处理;以及搬入步骤,在所述清洁步骤之后,不将所述处理室向大气开放就利用所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台。
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