[发明专利]含阿基米德螺旋线的亚波长圆偏振光检偏器的制备方法有效
| 申请号： | 201710572343.9 | 申请日： | 2015-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN107290059B | 公开（公告）日： | 2018-09-25 |
| 发明（设计）人： | 王钦华;胡敬佩;赵效楠;李瑞彬;朱晓军;曹冰 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | G01J4/00 | 分类号： | G01J4/00;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/42 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 陶海锋;孙周强 |
| 地址： | 215137 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种含阿基米德螺旋线的亚波长圆偏振光检偏器的制备方法，能够实现对左右旋圆偏振光的区分，该结构包括无机基片、设于无机基片上的二维阿基米德螺旋线和覆盖于二氧化硅基片和二维阿基米德螺旋线表面的金属膜层；本发明的检偏器在3.75um‑6.0um波段圆二色性平均在0.1以上，在3.85um处圆二色性最高可达到0.16，并具波段较宽，结构简单，易于制作的特点，在以后的光学传感系统、先进的纳米光子器件以及集成光学系统中，具有很大的应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 阿基米德 螺旋线 波长 偏振光 检偏器 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种含阿基米德螺旋线的亚波长圆偏振光检偏器的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：首先，在无机基片上涂光刻胶；然后经曝光显影，再刻蚀光刻胶，接着去除残余光刻胶得到带有阿基米德螺旋线的无机基片，为基底；最后，在基底上设置金属层，即得到含阿基米德螺旋线的亚波长圆偏振光检偏器；所述含阿基米德螺旋线的亚波长圆偏振光检偏器由结构单元阵列组成；所述结构单元包括基底与覆盖于基底上表面的金属层；所述基底由无机基片以及位于所述无机基片上表面的阿基米德螺旋线组成；所述阿基米德螺旋线的圈数为2～4，起始半径为0.05～0.2um，螺旋线间距为0.25～0.4um，螺旋线宽度为0.1～0.25um，螺旋线高度为0.08～0.14um；所述金属层厚度为0.035～0.08um；所述含阿基米德螺旋线的亚波长圆偏振光检偏器中，每个结构单元的周期为2.0～3.2um。
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