[发明专利]一种3D立体微纳结构的制作方法有效

专利信息
申请号: 201710574943.9 申请日: 2017-07-14
公开(公告)号: CN107473177B 公开(公告)日: 2020-07-14
发明(设计)人: 吴丰顺;周政;莫丽萍;祝温泊;章安娜 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 梁鹏;曹葆青
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于微纳制造工艺相关领域,并提供了一种3D微纳结构的制作方法,该方法包括:将被加工材料薄膜放置在模具上,模具根据根据材料的脱模性能决定是否涂覆脱模剂,在被加工材料薄膜上方放置用于发生自蔓延反应的自蔓延多层膜,向自蔓延多层膜自上至下的结构施加0.1MPa~20MPa的压力,点燃自蔓延多层膜,由此方式以点燃后的自蔓延多层膜作为热量与冲击力的来源,将所述模具上的图形转移到所述被加工材料薄膜上。按照本方法,不仅可有效避免微纳制造复杂的加工工序,具有方法灵活、成本低廉的特点,同时操作简便,条件温和,对环境要求低,可实现批量生产。
搜索关键词: 一种 立体 结构 制作方法
【主权项】:
一种3D立体微纳结构的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括如下步骤:S1,根据所设计图案制备模具;S2,在所述模具表面可选择地涂覆一层脱模剂,然后依次设置被加工材料薄膜、缓冲层、自蔓延多层膜、隔热材料膜和压板;S3,向所述压板均匀施加0.1MPa~20MPa的压力并引燃所述自蔓延多层膜,反应完成后执行脱膜,由此获得所需的3D立体微纳结构。
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