[发明专利]薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示装置在审
申请号: | 201710575147.7 | 申请日: | 2017-07-14 |
公开(公告)号: | CN109256418A | 公开(公告)日: | 2019-01-22 |
发明(设计)人: | 王骏;黄中浩;赵永亮;林承武 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/417 | 分类号: | H01L29/417;H01L29/786;H01L21/34;H01L21/28 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 汪源;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示装置,包括:有源层图形、源极和漏极,源极和漏极覆盖有源层图形的部分区域,有源层图形上未被源极和漏极所覆盖的部分为可导电图形,可导电图形包括:连接源极和漏极的主体部和位于主体部两侧的若干个凸起部,凸起部与主体部连接。本发明的技术方案通过在连接源极和漏极的主体部的两侧分别设置若干个凸起部,可使得可导电图形中连接源极和漏极的边缘可导电区域的长度增长,从而使得边缘可导电区域的阈值电压增大,边缘可导电区域能够后于主可导电区域导通,进而可有效解决因边缘可导电区域先于主可导电区域导通后产生漏电流的问题,有效提升薄膜晶体管的工作稳定性。 | ||
搜索关键词: | 导电区域 漏极 主体部 薄膜晶体管 导电图形 连接源 凸起部 源层 源极 显示装置 阵列基板 导通 制备 工作稳定性 有效解决 阈值电压 漏电流 覆盖 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管,其特征在于,包括:有源层图形、源极和漏极,所述源极覆盖所述有源层图形的部分区域,所述漏极覆盖所述有源层图形的部分区域,所述有源层图形上未被所述源极和所述漏极所覆盖的部分为可导电图形,所述可导电图形包括:连接所述源极和漏极的主体部和位于所述主体部两侧的若干个凸起部,所述凸起部与所述主体部连接。
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