[发明专利]用于光刻曝光系统的光源布置和光刻曝光系统在审
| 申请号： | 201710575782.5 | 申请日： | 2017-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN107621755A | 公开（公告）日： | 2018-01-23 |
| 发明（设计）人： | 保罗·凯撒 | 申请（专利权）人： | 苏斯微技术光刻有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人： | 王小衡,王天鹏 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于光刻曝光系统(10)的光源布置(12)，包括具有不同波长的至少三个光源(18、20、22)；以及分束单元(16)，其包括至少三个输入、一个输出和至少两个反射面。输入被分配给每个光源(18、20、22)和每个反射面。反射面将从分配给其对应输入的光源(20、22)发射的光反射到输出中。三个光源(18、20、22)被布置在分束单元(16)周围的三个不同的侧上。另外，示出了光刻曝光系统(10)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 曝光 系统 光源 布置 | ||
【主权项】：
一种用于光刻曝光系统的光源布置，具有：不同波长的至少三个光源(18、20、22)；以及分束单元(16)，其包括至少三个输入(E18、E20、E22)、输出(A)以及至少两个反射面(R20、R22)，其中输入(E18、E20、E22)被分配给每个光源(18、20、22)和每个反射面(R20、R22)，其中，所述反射面(R20、R22)将从被分配给其对应输入(E20、E22)的光源(20、22)所发射的光反射到所述输出(A)中，并且其中所述三个光源(18、20、22)被布置在所述分束单元(16)周围的三个不同的侧上。
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