[发明专利]基因测序结构、芯片、系统和基因测序方法有效

专利信息
申请号: 201710580687.4 申请日: 2017-07-17
公开(公告)号: CN109266727B 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 蔡佩芝;庞凤春;刘华哲 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: C12Q1/6869 分类号: C12Q1/6869;C12M1/34;H01L41/113
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 罗瑞芝;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于基因测序及生物检测领域,涉及基因测序结构、芯片、系统和方法。该基因测序结构中:对设电极包括相对、间隔设置的第一电极和第二电极;半导体层设置于对设电极的一侧,且分别与第一电极和第二电极在正投影方向上至少部分重叠;绝缘层,设置于半导体层远离对设电极的一侧;感应电极设置于绝缘层远离对设电极的一侧,且与半导体层在正投影方向上至少部分重叠;敏感膜层设置于感应电极远离对设电极的一侧,至少包含有对碱基配对产生离子能发生电压变化的敏感材料;微孔层设置于敏感膜层远离对设电极的一侧,在对应着感应电极的区域开设有微孔。该基因测序结构在基因测序时无需激光光源和光学系统,成本低、结构简单,测试效率高。
搜索关键词: 基因 结构 芯片 系统 方法
【主权项】:
1.一种基因测序结构,其特征在于,包括对设电极、半导体层、感应电极、绝缘层、敏感膜层和微孔层,其中:所述对设电极,包括相对、间隔设置的第一电极和第二电极;所述半导体层,设置于所述对设电极的一侧,且分别与所述第一电极和所述第二电极在正投影方向上至少部分重叠;所述绝缘层,设置于所述半导体层远离所述对设电极的一侧;所述感应电极,设置于所述绝缘层远离所述对设电极的一侧,且与所述半导体层在正投影方向上至少部分重叠;所述敏感膜层,设置于所述感应电极远离所述对设电极的一侧,至少包含有对碱基配对产生离子能发生电压变化的敏感材料;所述微孔层,设置于所述敏感膜层远离所述对设电极的一侧,在对应着所述感应电极的区域开设有微孔。
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