[发明专利]薄膜晶体管及制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201710581306.4 | 申请日： | 2017-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN107369716B | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 周天民;杨维;王利忠;朱夏明;宋吉鹏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L21/336;H01L29/10;H01L29/417 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 刘延喜;王增鑫 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种薄膜晶体管及制作方法、显示装置，所述薄膜晶体管包括栅极、栅介质层、有源层、源漏电极和钝化层；所述源漏电极和钝化层之间设有隔离层，所述隔离层覆盖源漏电极以及源漏电极之间的沟道区。本发明通过在源漏电极以及源漏电极之间的沟道区蒸镀隔离层，使所述源漏电极在后续工艺中不易氧化，尤其是改善了铜在后续高温钝化工艺中的氧化问题。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜晶体管 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种薄膜晶体管，包括栅极、栅介质层、有源层、源漏电极和钝化层；其特征在于：所述源漏电极和钝化层之间设有隔离层，所述隔离层覆盖源漏电极以及源漏电极之间的沟道区。
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