[发明专利]光掩模及显示装置的制造方法、光掩模基板的检查方法及装置

摘要

本发明提供一种光掩模及显示装置的制造方法、光掩模基板的检查方法及装置。在光掩模的制造方法中，该光掩模在透明基板的第1主面具有基于设计描画数据的转印用图案，所述光掩模的制造方法包括以下工序将在第1主面上层叠了薄膜和抗蚀剂膜的光掩模基板载置在描画装置的载台上；描画工序，对光掩模基板进行描画；以及使用将抗蚀剂膜显影而形成的抗蚀剂图案对薄膜进行图案形成，在描画工序中，准备表示描画装置对光掩模基板的形状带来的变形量的描画装置固有数据、和表示光掩模基板的第2主面形状的背面数据，将起因于描画装置固有数据及背面数据的坐标偏差合成量反映在设计描画数据中，在光掩模基板上描画转印用图案。

主权项

一种光掩模的制造方法，该光掩模在透明基板的第1主面具有基于设计描画数据(W1)的转印用图案，其特征在于，所述光掩模的制造方法包括以下工序：将在所述第1主面上层叠了薄膜和抗蚀剂膜的光掩模基板载置在描画装置的载台上；描画工序，对所述光掩模基板进行描画；以及使用将所述抗蚀剂膜显影而形成的抗蚀剂图案，对所述薄膜进行图案形成，在所述描画工序中，准备表示所述描画装置对所述光掩模基板的形状带来的变形量的描画装置固有数据(M1)、和表示所述光掩模基板的第2主面形状的背面数据(S2)，将起因于所述描画装置固有数据(M1)及所述背面数据(S2)的坐标偏差合成量(D1)反映在所述设计描画数据(W1)中，在所述光掩模基板上描画转印用图案。