[发明专利]阵列基板的制作方法及显示装置的制作方法

摘要

本发明提供一种阵列基板的制作方法和显示装置的制作方法，其包括：在平坦化层上依次形成电极层的整层膜层和金属功能层的整层膜层；利用多灰阶掩膜层使金属功能层的整层膜层形成电极层所需图案；对多灰阶掩膜层进行灰化处理；利用具有电极层所需图案的金属功能层使电极层的整层膜层形成电极层所需图案；利用经灰化处理后的多灰阶掩膜层使具有电极层所需图案的金属功能层形成金属功能层所需图案；还包括：在对多灰阶掩膜层进行灰化处理之前，在电极层的整层膜层的未被具有电极层所需图案的金属功能层覆盖的部分之上形成绝缘保护层。本发明提供的阵列基板的制作方法，可以保证膜层的性质与产品特性，以及保证工艺顺利并安全的进行。

主权项

一种阵列基板的制作方法，包括：在平坦化层上依次形成电极层的整层膜层和金属功能层的整层膜层；利用多灰阶掩膜层使所述金属功能层的整层膜层形成所述电极层所需图案；对所述多灰阶掩膜层进行灰化处理；利用具有所述电极层所需图案的所述金属功能层使所述电极层的整层膜层形成所述电极层所需图案；利用经灰化处理后的所述多灰阶掩膜层使具有所述电极层所需图案的所述金属功能层形成所述金属功能层所需图案；其特征在于，还包括：在所述对所述多灰阶掩膜层进行灰化处理之前，在所述电极层的整层膜层的未被具有所述电极层所需图案的所述金属功能层覆盖的部分之上形成绝缘保护层。