[发明专利]一种钙钛矿/硅异质结叠层太阳电池中隧穿结的结构设计在审
申请号: | 201710594187.6 | 申请日: | 2017-07-20 |
公开(公告)号: | CN107564989A | 公开(公告)日: | 2018-01-09 |
发明(设计)人: | 张晓丹;姚鑫;朱世杰;郑翠翠;任千尚;李盛喆;魏长春;丁毅;任慧志;黄茜;李宝璋;赵颖 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
主分类号: | H01L31/0725 | 分类号: | H01L31/0725;H01L31/074;H01L51/42 |
代理公司: | 天津耀达律师事务所12223 | 代理人: | 侯力 |
地址: | 300071*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明涉及太阳电池领域,提出了一种钙钛矿/硅异质结叠层太阳电池中隧穿结的结构设计,该结构是在叠层电池顶、底电池反向p‑n结处添加一层窄带隙、高掺杂浓度的隧穿复合层TRL,其导带与价带间较小的能级差值可以有效的增强隧穿结处的载流子复合。此外,底电池p层与隧穿结处的梯度带阶有效的促进了底电池与隧穿结处的空穴抽取,避免了隧穿结界面间电荷的大量累积。而且添加高掺杂浓度的TRL后,隧穿结处缺陷态密度增加,电子空穴通过缺陷辅助隧穿,复合和隧穿几率增加。该结构所采用的异质结可有效提升底电池的光谱响应,减小开压损失,且其制备方法简单,易于实施。 | ||
搜索关键词: | 一种 钙钛矿 硅异质结叠层 太阳电池 中隧穿结 结构设计 | ||
【主权项】:
一种钙钛矿/硅异质结叠层太阳电池中隧穿结的结构设计,其特征在于所述的隧穿结的结构设计是在叠层电池顶、底电池反向p‑n结处添加一层窄带隙、高掺杂浓度的隧穿复合层TRL。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的