[发明专利]真空减压干燥设备有效
| 申请号： | 201710594796.1 | 申请日： | 2017-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN107413603B | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 郭开超 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | B05D3/04 | 分类号： | B05D3/04;G02F1/13 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开一种真空减压干燥设备，涉及薄膜晶体管液晶显示器的制造领域，用于解决现有技术中存在的减压干燥制程中基板上光阻及溶剂蒸汽在基板中间区域出现聚集而造成色不均现象的技术问题。本发明的真空减压干燥设备，包括盖板和腔室，盖板上的第一吹气孔阵列和第二吹气孔阵列均包括沿盖板的长边方向分布的吹气孔，因此在破真空过程中，整个腔室内部气流分布更加均匀，且吹气孔的位置离基板的中心区域距离更短，更容易影响到中心区域的气流，防止溶剂蒸汽凝结而造成基板的色不均现象。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 减压 干燥设备 | ||
【主权项】：
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