[发明专利]一种基于特征模型到背景模型距离的背景建模方法在审
申请号: | 201710596025.6 | 申请日: | 2017-07-20 |
公开(公告)号: | CN107392246A | 公开(公告)日: | 2017-11-24 |
发明(设计)人: | 杨路;李静;杜鹏;梁黄黄;程洪 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | G06K9/62 | 分类号: | G06K9/62;G06T7/194;G06N3/04;G06N3/08 |
代理公司: | 成都信博专利代理有限责任公司51200 | 代理人: | 张辉 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于特征模型到背景模型距离的背景建模方法,通过训练好的网络建立像素点的特征模型,再根据前N帧图像训练所得结果,得到像素点的背景模型,并用最小M2M距离,即特征模型到背景模型的距离,来衡量像素点的特征模型和背景模型之间的相似度,再根据设定的阈值与最小M2M距离的比较,对像素点进行前景点和背景点的分割,之后再利用M2M距离对像素点背景模型和其邻域像素点背景模型进行更新。本发明充分利用像素点的基于时空上下文的特征信息,使背景建模具有很好地适应性和准确性。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 特征 模型 背景 距离 建模 方法 | ||
【主权项】:
一种基于特征模型到背景模型距离的背景建模方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1:将训练样本对应的标准图像作为训练样本的标签,每次选取训练样本中连续M1帧图像和对应的标签送入全卷积网络进行训练;步骤2:将当前帧图像送入步骤1中训练好的全卷积网络,所得到的低、高层网络特征层特征图集的特征向量作为像素点的特征模型;步骤3:根据步骤2中方法,连续提取前N帧图像的特征模型,对像素点的背景模型进行初始化操作;步骤4:根据步骤2中方法,提取当前帧图像的特征模型vp,再计算特征模型vp到背景模型Mp的最小M2M距离min_M2M(vp,Mp);步骤5:设置前景分割的阈值Rp,若min_M2M(vp,Mp)>Rp,则对应的像素点为前景点,反之为背景点;步骤6:对已经判断为背景点的像素点,按照像素点背景模型更新和领域像素点的背景模型更新方法对整体的背景模型进行更新。
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