[发明专利]喷嘴组件、改善材料层厚度均匀性的沉积装置及方法有效
| 申请号： | 201710596312.7 | 申请日： | 2017-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN109285887B | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/78 | 分类号： | H01L29/78;H01L21/336;H01L21/02;H01L21/67;C23C16/54 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种喷嘴组件、改善材料层厚度均匀性的沉积装置及方法，喷嘴组件用以自衬底的边缘向衬底表面喷射反应气体，以在衬底表面形成材料层，喷嘴组件至少包括第一反应气体喷嘴及第二反应气体喷嘴，其中，第二反应气体喷嘴以衬底的中心为中心、沿衬底的周向相较于第一反应气体喷嘴偏移第一夹角；第一反应气体喷嘴的喷口朝向衬底的中心，第二反应气体喷嘴的喷口的朝向与正对衬底的中心的方向具有第二夹角。本发明的喷嘴组件通过设置至少两个反应气体喷嘴，并通过设置增设的反应气体喷嘴的位置及喷口朝向，在使用喷嘴组件在衬底表面上沉积材料层时，可以使得沉积的材料层的膜厚具有较好的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 组件 改善 材料 厚度 均匀 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种喷嘴组件，其特征在于，所述喷嘴组件用以自衬底的边缘向所述衬底表面喷射反应气体，以在所述衬底表面形成材料层，所述喷嘴组件至少包括第一反应气体喷嘴及第二反应气体喷嘴，其中，所述第二反应气体喷嘴的设置位置是以所述衬底的中心为中心、沿所述衬底的周向相较于所述第一反应气体喷嘴朝向所述衬底的中心偏移第一夹角；所述第一反应气体喷嘴的喷口朝向所述衬底的中心，所述第二反应气体喷嘴的喷口的朝向与正对所述衬底中心的方向具有第二夹角。
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