[发明专利]一种高致密、高界面结合的Mo/Ag层状复合材料的制备方法在审
申请号: | 201710597185.2 | 申请日: | 2017-07-20 |
公开(公告)号: | CN109280895A | 公开(公告)日: | 2019-01-29 |
发明(设计)人: | 王立平;姜欣;蒲吉斌 | 申请(专利权)人: | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
主分类号: | C23C14/48 | 分类号: | C23C14/48;C23C14/35;C23C14/16;C23C14/58 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 单英 |
地址: | 315201 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供一种高致密、高界面结合的Mo/Ag层状复合材料的制备方法。该方法在Mo层表面首先采用离子注入技术注入Ag,形成Mo/Ag合金层;然后采用磁控溅射技术沉积Ag层,利用磁控溅射过程中高能银离子对Mo层表面的轰击效应,沉积得到平整致密的Ag层;最后通过退火处理,促进Mo/Ag界面处原子的相互扩散,形成冶金结合。制得的Mo/Ag层状复合材料具有高致密性欲高界面结合力,可用于对致密性与界面结合要求高的场合,例如,用于空间飞行器太阳能电池互连片等。 | ||
搜索关键词: | 层状复合材料 界面结合 高致密 沉积 制备 致密 磁控溅射技术 离子注入技术 界面结合力 空间飞行器 太阳能电池 性欲 磁控溅射 退火处理 冶金结合 合金层 互连片 界面处 银离子 致密性 可用 轰击 平整 扩散 | ||
【主权项】:
1.一种高致密、高界面结合的Mo/Ag层状复合材料的制备方法,其特征是:在Mo层表面首先离子注入Ag,然后采用磁控溅射技术沉积Ag层,最后进行退火处理。
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