[发明专利]用于掘进巷道的支护框架、支护结构及巷道掘进方法在审

专利信息
申请号: 201710598663.1 申请日: 2017-07-21
公开(公告)号: CN107246275A 公开(公告)日: 2017-10-13
发明(设计)人: 杨俊哲;唐海军;李金刚;刘兆祥;刘柄良 申请(专利权)人: 中国神华能源股份有限公司;神华神东煤炭集团有限责任公司
主分类号: E21D11/18 分类号: E21D11/18;E21D9/06
代理公司: 北京邦信阳专利商标代理有限公司11012 代理人: 崔华
地址: 100011 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种用于掘进巷道的支护框架、支护结构及巷道掘进方法,用于掘进巷道的支护框架包括两个相对设置的侧部支架,侧部支架包括顶端和底端;第一弧形支架,第一弧形支架设置在侧部支架上方,第一弧形支架向远离侧部支架的顶端一侧凸出;第二弧形支架,第二弧形支架设置在侧部支架下方,第二弧形支架向远离侧部支架的底端一侧凸出;其中,两个侧部支架、第一弧形支架和第二弧形支架围合成支护框架。本发明提供一种用于掘进巷道的支护框架、支护结构及巷道掘进方法,支护效果好,支护速度快,满足超大断面所需支护要求,以便能够实现快速、安全、环保施工,而且巷道的服务年限长。
搜索关键词: 用于 掘进 巷道 支护 框架 结构 方法
【主权项】:
一种用于掘进巷道的支护框架,其特征在于,包括:两个相对设置的侧部支架,所述侧部支架包括顶端和底端;第一弧形支架,所述第一弧形支架设置在所述侧部支架上方,所述第一弧形支架向远离所述侧部支架的所述顶端一侧凸出;第二弧形支架,所述第二弧形支架设置在所述侧部支架下方,所述第二弧形支架向远离所述侧部支架的所述底端一侧凸出;其中,两个所述侧部支架、第一弧形支架和第二弧形支架围合成所述支护框架。
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