[发明专利]关于青椒的种植技术在审
申请号: | 201710598731.4 | 申请日: | 2017-07-21 |
公开(公告)号: | CN109418072A | 公开(公告)日: | 2019-03-05 |
发明(设计)人: | 万太胜 | 申请(专利权)人: | 万太胜 |
主分类号: | A01G22/05 | 分类号: | A01G22/05 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 266200 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 关于青椒的种植技术,其特点是:1、整地起垄:按照常规整理灌溉土地,起垄开沟、施肥、合垄,垄距80—90厘米;2、播种:将种子提前用营养液浸泡12小时。按30厘米株距,用播种机每穴点播种子1—3粒,稍后,用手耙轻耧一下,然后,覆土深至2厘米,为防地下害虫钻食种子及幼苗,覆土后,将地块全部打一遍除草剂,在种穴上按垄覆盖一层地膜,地膜两边压土以防风吹;3、幼苗保护:待4天5宿后,将种穴上的地膜打一孔,以利于幼苗生长;此技术适用于青椒播种使用。 | ||
搜索关键词: | 青椒 地膜 覆土 起垄 种穴 播种 除草剂 营养液浸泡 播种机 常规整理 地下害虫 幼苗保护 幼苗生长 防风吹 合垄 开沟 垄距 手耙 压土 幼苗 株距 种植 点播 整地 地块 施肥 两边 灌溉 覆盖 土地 | ||
【主权项】:
1.关于青椒的种植技术,其特征是包括以下过程:整地起垄:按照常规整理灌溉土地,起垄开沟、施肥、合垄,垄距80—90厘米;播种:将种子提前用营养液浸泡12小时;按30厘米株距,用播种机每穴点播种子1—3粒,稍后,用手耙轻耧一下,然后,覆土深至2厘米,为防地下害虫钻食种子及幼苗,覆土后,将地块全部打一遍除草剂,在种穴上按垄覆盖一层地膜,地膜两边压土以防风吹;3、幼苗保护:待4天5宿后,将种穴上的地膜打一孔,以利于幼苗生长。
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