[发明专利]大口径熔石英光学元件表面微缺陷快速暗场检测方法有效

专利信息
申请号: 201710600207.6 申请日: 2017-07-21
公开(公告)号: CN107356608B 公开(公告)日: 2020-06-30
发明(设计)人: 袁晓东;赵林杰;程健;陈明君;廖威;王海军;张传超;陈静;张丽娟 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心;哈尔滨工业大学
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 代理人: 郑健
地址: 621000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种大口径熔石英光学元件表面微缺陷快速暗场检测方法,首先采用明场面阵CCD显微系统对光学元件进行定位,确定光学元件在绝对坐标系下的位置,再利用光谱共焦测距系统确定光学元件强激光辐照出光面方程,最后利用暗场线阵CCD显微系统对精确移动的大口径熔石英光学元件表面进行单向光栅式逐行快速扫描,获取微缺陷信息,并采用明场面阵CCD显微系统在线监测光学元件。本发明实现了对光学元件表面微缺陷进行全口径自动化扫描,大大提高检测效率,全口径光学元件表面微缺陷的快速扫描与检测时间可控制在30min以内。
搜索关键词: 口径 石英 光学 元件 表面 缺陷 快速 暗场 检测 方法
【主权项】:
一种大口径熔石英光学元件表面微缺陷快速暗场检测方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一、将机床检测系统自动初始化,找到机床零点,以机床检测系统的二维运动平台为X,Y轴、显微检测系统为Z轴,建立机床检测系统的坐标系,即绝对坐标系;步骤二、将熔石英光学元件安装在二维运动平台上;步骤三、采用显微检测系统的明场面阵CCD显微系统确定熔石英光学元件的几何中心坐标值,以光学元件的几何中心为原点建立大口径熔石英光学元件的工件坐标系;步骤四、采用显微检测系统的暗场线阵CCD显微系统对光学元件出光面进行全口径单向光栅式快速逐行扫描,获取出光面的扫描图像;步骤五、对暗场线阵CCD显微系统扫描采集的微缺陷图像直接进行图像二值化处理,同时采用边扫描边处理的方法,将处理后的二值化图像进行拼接,提取在工件坐标系下的微缺陷特征信息,并根据工件坐标系与绝对坐标系的关系,将工件坐标系下的微缺陷坐标值转化为绝对坐标系下的坐标值;实现对大口径熔石英光学元件表面微缺陷的快速暗场检测。
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