[发明专利]掩膜版及掩膜版的制作方法有效
申请号: | 201710601835.6 | 申请日: | 2017-07-21 |
公开(公告)号: | CN107354426B | 公开(公告)日: | 2020-04-03 |
发明(设计)人: | 潘晟恺;乔永康 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种掩膜版及掩膜版的制作方法,属于显示技术领域,其可解决现有技术在对衬底基板进行镀膜时,金属掩膜版容易划伤、压伤衬底基板的问题。本发明的掩膜版具有用于与衬底基板接触的接触侧,该掩膜版包括金属本体和有机涂层,有机涂层至少形成于金属本体靠近接触侧的一侧的边缘区域。 | ||
搜索关键词: | 掩膜版 制作方法 | ||
【主权项】:
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