[发明专利]一种高效沉积CVD装置

摘要

一种高效沉积CVD装置，进气装置、衬底支撑结构和加热器在反应腔内自上至下平行排布，衬底水平置于衬底支撑结构的支撑面之上，进气装置上开设若干个导流槽，其中50％以上导流槽的中心线走向以入气口为原点地从三维角度看：具有垂直向下的分量和从衬底托盘中心指向衬底托盘外缘方向的分量，同时衬底托盘转动方向的分量为零；或者，具有垂直向下的分量和衬底托盘转动方向的分量，同时从衬底托盘中心指向衬底托盘外缘方向的分量为零；或者，同时具有垂直向下的分量、从衬底托盘中心指向衬底托盘外缘方向的分量和衬底托盘转动方向的分量。本发明效率较高，不容易产生涡旋等气流，可有效的抑制气相反应，大幅降低颗粒物等不良副产物的产生。

主权项

1.一种高效沉积CVD装置，包括反应室(2)，反应室(2)的内部是反应腔(4)，反应室(2) 包括进气装置(7)、衬底支撑结构和加热器(5)，在反应室(2)的上方和下方分别设有入气口 (1)和出气口(3)，进气装置(7)、衬底支撑结构和加热器(5)安装在反应腔(4)内，所述进气 装置(7)、衬底支撑结构和加热器(5)在反应腔(4)内自上至下平行排布，衬底水平置于衬底 支撑结构的支撑面之上，进气装置(7)上开设若干个导流槽(8)，其特征是：其中50％以上导流槽(8)的 中心线走向以入气口(1)为原点地从三维角度看：具有垂直向下的分量和衬底托盘转动方 向的分量，同时从衬底托盘中心指向衬底托盘外缘方向的分量为零；所述衬底支撑结构为衬底托盘(6)，并进一步的具有支撑衬底托盘(6)的旋转轴(9)，旋转轴(9)固定连接在衬底托盘(6)下方中部， 并穿过反应室(2)与驱动机构连接，衬底托盘(6)支撑于反应室(2)内；穿过该50％以上导流槽(8)的反应气体在衬底托盘(6)和进气装置(7)所限定的空间中向外流出。