[发明专利]一种柔性隔离基团修饰的有机二阶非线性光学发色团及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201710606869.4 | 申请日： | 2017-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN109293643A | 公开（公告）日： | 2019-02-01 |
| 发明（设计）人： | 甄珍;陈璐;和延岭;薄淑晖 | 申请（专利权）人： | 中国科学院理化技术研究所 |
| 主分类号： | C07D409/06 | 分类号： | C07D409/06;C07F7/18;C08K5/45;C08L69/00;G02F1/361 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人： | 赵晓丹 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种柔性隔离基团修饰的有机二阶非线性光学发色团，具有以下结构： |
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| 搜索关键词： | 羟烷基 二阶非线性光学发色团 烷基 发色团分子 基团修饰 柔性隔离 偶极 制备方法和应用 电子传输能力 一阶超极化率 电光系数 电子给体 电子受体 硅烷保护 卤素原子 三氟甲基 苯基 共轭 间位 堆积 宏观 转化 | ||
【主权项】：
1.一种柔性隔离基团修饰的有机二阶非线性光学发色团，其特征在于，具有如通式I所示的结构：![]()
其中，R1为C1～C20的烷基、C1～C10的羟烷基、被卤素原子保护的C1～C10的羟烷基或被硅烷保护的C1～C10的羟烷基；R2为甲基或三氟甲基；R3为C1～C20的烷基或苯基。
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