[发明专利]采用特殊方向图阵元的宽角扫描相控阵天线及设计方法有效

专利信息
申请号: 201710614173.6 申请日: 2017-07-25
公开(公告)号: CN107546478B 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 邹艳林;孔晓佳;薛裕晓;郭景丽;王勇;孙保华 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01Q1/38 分类号: H01Q1/38;H01Q1/50;H01Q9/20;H01Q21/29
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华
地址: 710071 陕西省*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明属于宽角扫描相控阵天线技术领域,公开了一种采用特殊方向图阵元的宽角扫描相控阵天线及设计方法。所述低剖面相控阵采用具有特殊方向图的子阵作为阵元,实现低剖面相控阵天线在宽扫描角范围内具有平稳的增益或者满足在大扫描角时增益更高的要求;所述特殊方向图在阵列平面的法线方向与最大扫描角度方向之间且靠近最大扫描角度方向对称分布着最大增益方向,形成方向图中心凹陷的特征;阵元方向图的中心凹陷深度根据组阵要求进行设计,阵因子方向性越强,中心凹陷越深。本发明在不改变相控阵的阵因子的前提下,可以实现低剖面相控阵天线在宽扫描角范围内具有平稳的增益,或者满足在大扫描角时增益更高的要求。
搜索关键词: 采用 特殊 方向 图阵元 扫描 相控阵 天线 设计 方法
【主权项】:
一种采用特殊方向图阵元的宽角扫描相控阵天线及设计方法,其特征在于,采用具有特殊方向图的子阵作为阵元,实现低剖面相控阵天线在宽扫描角范围内具有平稳的增益,或者满足在大扫描角时增益更高的要求;所述特殊方向图在阵列平面的法线方向与最大扫描角度方向之间且靠近最大扫描角度方向对称分布着最大增益方向,形成方向图中心凹陷的特征;阵元方向图的中心凹陷深度根据组阵要求进行设计,阵因子方向性越强,中心凹陷越深。
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