[发明专利]激光设备、激光处理装备以及激光设备的污染防止方法有效
| 申请号： | 201710614877.3 | 申请日： | 2017-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN107649781B | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 李基雄;金圣进;车恩熙;金炳秀 | 申请（专利权）人： | AP系统股份有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/14 | 分类号： | B23K26/14;C23C16/44;H01L21/268;H01L21/324 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨文娟;臧建明 |
| 地址： | 韩国京畿道华城市*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种激光设备、激光处理装备以及激光设备的污染防止方法，激光设备包含具有内部空间的壳体、用于通过激光辐照所述壳体的内部的激光单元、安装在所述壳体中以便将吹扫气体供应到所述壳体中的气体供应单元、以及具备安装在所述壳体中以便测量所述壳体内部多个位置处的氧浓度的主要氧浓度测量装置的测量单元。本发明可通过精确调节激光设备内部的吹扫气体的量来防止所述激光设备内部的透镜或反射镜的污染。 | ||
| 搜索关键词： | 激光设备 激光 处理 装备 以及 污染 防止 方法 | ||
【主权项】：
一种激光设备，其特征在于，包括：壳体，其具有内部空间；激光单元，其经配置以通过激光辐照所述壳体内部；气体供应单元，其安装在所述壳体中以便将吹扫气体供应到所述壳体中；以及测量单元，其具备主要氧浓度测量装置，所述主要氧浓度测量装置安装在所述壳体中以便测量所述壳体内部多个位置处的氧浓度。
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