[发明专利]可调控磁场电弧离子镀制备氮基硬质涂层的工艺方法有效
| 申请号： | 201710615549.5 | 申请日： | 2017-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN107338409B | 公开（公告）日： | 2020-02-11 |
| 发明（设计）人： | 蔺增;陈彬;王海 | 申请（专利权）人： | 东北大学;沈阳威利德真空技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/32 |
| 代理公司： | 37221 济南圣达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李健康 |
| 地址： | 110819 辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明的可调控磁场电弧离子镀技术制备氮基硬质涂层的工艺方法，包括以下步骤：基片预处理；基片超声清洗；基片表面刻蚀清洗；沉积氮基硬质涂层：对基片进行电弧离子镀膜，调节电磁场线圈的电源参数以改变电磁场的强度和方向，使弧斑在靶面上以靶材中心为圆心做稳定地缩放运动，均匀地刻蚀靶材；放气取出镀膜后的基片。本发明的工艺及方法，通过调节电磁场线圈的电源参数以改变电磁场的强度和方向，使弧斑在靶面上以靶材中心为圆心做稳定地缩放运动，均匀地刻蚀靶材。利用该方法镀制的单层氮基硬质涂层硬度高、与基体表面结合强度高、摩擦系数低、涂层表面光滑、“大颗粒”数量少且尺寸小且组织均匀致密，该镀制工艺简单易行、成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 硬质涂层 氮基 刻蚀 电磁场线圈 圆心 靶材中心 电源参数 缩放运动 电磁场 靶材 镀制 弧斑 电弧离子镀技术 预处理 电弧离子镀膜 超声清洗 基片表面 基体表面 均匀致密 摩擦系数 涂层表面 大颗粒 可调控 单层 镀膜 放气 沉积 光滑 制备 磁场 清洗 取出 | ||
【主权项】：
1.一种可调控磁场电弧离子镀技术制备氮基硬质涂层的工艺方法，其特征在于，包括以下步骤：/na、基片预处理：对基片进行抛光处理；/nb、基片超声清洗：对抛光后的基片进行超声清洗；/nc、基片表面刻蚀清洗：将超声清洗后的基片放入真空室内，抽气至本底真空，开启刻蚀弧电源对基片表面进行刻蚀清洗；具体为：/n抽气至本底真空，气压为5×10
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