[发明专利]用于脉冲式光激发沉积与蚀刻的装置与方法

摘要

本发明的实施方式提供在处理腔室内处理基板的方法。在一个实施方式中，方法包含提供前驱物气体混合物至处理腔室内，前驱物气体混合物包含沉积前驱物气体和蚀刻前驱物气体、使前驱物气体混合物受到出自热源的热能作用，以在基板的表面上沉积材料层，其中热能小于蚀刻前驱物气体热解所需的最小值，及在材料层形成在基板的表面上后，使前驱物气体混合物受到出自辐射源的光能作用，光能的波长和功率水平经选择以促进蚀刻前驱物气体比沉积前驱物气体更易光解解离，及自基板表面蚀刻部分材料层。

主权项

一种基板处理系统，包括：处理腔室，所述处理腔室具有设置在所述处理腔室中的基板支撑件；耦接至所述处理腔室的气体供应器，其中所述气体供应器可操作以从一或多个气源供应前驱物气体混合物至所述处理腔室内，所述前驱物气体混合物包含沉积前驱物气体和蚀刻前驱物气体；加热模块，所述加热模块设置在所述基板支撑件上方，其中所述加热模块可操作以在所述处理腔室中将热能耦合至所述前驱物气体混合物，所述热能足以实质热分解所述沉积前驱物气体，并且所述热能低于所述前驱物气体混合物中的所述蚀刻前驱物气体热解所需的最小能量；以及激光源，所述激光源可操作以发射激光能量至所述前驱物气体混合物，所述激光能量和所述热能一起导致所述蚀刻前驱物气体的光解解离比所述沉积前驱物气体的分解更快发生，以在所述基板的表面上沉积材料层。