[发明专利]法拉第屏蔽件及反应腔室在审
| 申请号： | 201710623037.3 | 申请日： | 2017-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN107301943A | 公开（公告）日： | 2017-10-27 |
| 发明（设计）人： | 刘建生;陈鹏;王文章;常大磊;徐奎;丁培军;姜鑫先;张璐;苏振宁;宋巧丽;贾强 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 彭瑞欣,张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种法拉第屏蔽件及反应腔室，其包括导电环体，在该导电环体上形成有开缝，该开缝包括第一子开缝，该第一子开缝沿导电环体的圆周方向设置，且与导电环体的轴线之间形成夹角，用以通过增加电磁场在导电环体的圆周方向上的电场分量的耦合效率，来增加该电磁场的总耦合效率。本发明提供的法拉第屏蔽件，其可以提高磁场耦合效率，从而可以降低需要向射频线圈加载的射频功率。 | ||
| 搜索关键词： | 法拉第 屏蔽 反应 | ||
【主权项】：
一种法拉第屏蔽件，包括导电环体，在所述导电环体上形成有开缝，其特征在于，所述开缝包括第一子开缝，所述第一子开缝沿所述导电环体的圆周方向设置，且与所述导电环体的轴线之间形成夹角，用以通过增加电磁场在所述导电环体的圆周方向上的电场分量的耦合效率，来增加该电磁场的总耦合效率。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方华创微电子装备有限公司，未经北京北方华创微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710623037.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
