[发明专利]一种含助剂超分子插层结构紫外吸收剂及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710628678.8 申请日: 2017-07-28
公开(公告)号: CN107513179B 公开(公告)日: 2019-06-11
发明(设计)人: 唐平贵;马若愚;李殿卿;冯拥军;陈廷伟;赵梦垚 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: C08K9/04 分类号: C08K9/04;C08K9/02;C08K3/22;C08K5/42;C08K5/13;C08K5/18;C08K5/09;C08K5/1545;C08L23/12
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 张慧
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种含助剂超分子插层结构紫外吸收剂及其制备方法。本发明创新性地将紫外吸收剂与有机弱还原剂共同组装至LDHs层间,利用紫外吸收剂的紫外吸收性能阻隔紫外线对塑料的光降解,利用助剂有机弱还原剂的还原作用吸收高活性氧以减少塑料的光氧化。由于LDHs层间的紫外吸收剂和有机弱还原剂存在协同抗光老化作用,紫外吸收剂与有机弱还原剂共插层LDHs的抗光老化性能明显优于紫外吸收剂单插层结构LDHs,克服了目前紫外吸收剂单插层LDHs抗光老化效果不佳的缺点;同时还具有耐热性高、耐迁移性好、光保护性能优异等优点,可广泛应用于塑料、涂料等领域。本发明所采用的制备方法操作简便、原料来源丰富、便于工业化生产。
搜索关键词: 紫外吸收剂 弱还原剂 抗光老化 制备 超分子插层 含助剂 层间 塑料 紫外吸收性能 耐热性 保护性能 插层结构 创新性地 还原作用 耐迁移性 共插层 光降解 光氧化 活性氧 紫外线 插层 阻隔 涂料 协同 组装 吸收 应用
【主权项】:
1.一种含助剂超分子插层结构紫外吸收剂,其化学通式为:[M2+1‑xM3+x(OH)2](A)y(B)z·cH2O其中x=y+z,0.2≤x≤0.4,0.05<y<0.35,0.05<z<0.35,c为层间水分子数,0.4<c<1;M2+为Mg2+、Zn2+、Ni2+、Ca2+、Fe2+、Cu2+中的任意一种或两种,M3+为Al3+、Co3+、Ti3+、Fe3+、Cr3+中的一种或两种;A为有机弱还原剂A的阴离子,所述的机弱还原剂A为山梨酸钾、柠檬酸亚锡钠、L‑苏氨酸钠、抗坏血酸钠中的一种或多种;B为紫外吸收剂B的阴离子,所述的紫外吸收剂B为对氨基苯甲酸钠、对‑甲氧基肉桂酸钠、水杨酸钠、2‑羟基‑4‑甲氧基二苯甲酮‑5‑磺酸钠、香豆素‑3‑羧酸钠、肉桂酸钠、苯并三唑‑4‑羟基‑苯磺酸钠、2‑苯基苯并咪唑‑5‑磺酸钠中的一种或多种。
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