[发明专利]微影图案化方法在审
| 申请号： | 201710638389.6 | 申请日： | 2017-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN108957958A | 公开（公告）日： | 2018-12-07 |
| 发明（设计）人： | 王筱姗;刘朕与;张庆裕;林进祥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/82 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 冯志云;王芝艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 提供一种微影图案化的方法，包括形成材料层于基板上，其中材料层可溶于溶剂中；形成阻挡层于材料层上；以及形成光阻层于阻挡层上，其中光阻层包含光敏材料，且光敏材料溶于溶剂中。上述方法亦包含曝光光阻层；以及在显影剂中显影光阻层。 | ||
| 搜索关键词： | 光阻层 微影图案化 光敏材料 材料层 阻挡层 溶剂 形成材料 曝光光 显影剂 基板 可溶 显影 阻层 | ||
【主权项】：
1.一种微影图案化的方法，包括：形成一材料层于一基板上，其中该材料层可溶于一溶剂中；形成一阻挡层于该材料层上；形成一光阻层于该阻挡层上，其中该光阻层包含一光敏材料，且该光敏材料溶于该溶剂中；曝光该光阻层；以及在一显影剂中显影该光阻层。
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