[发明专利]一种新型ESD保护结构及其实现方法有效

专利信息
申请号: 201710640089.1 申请日: 2017-07-31
公开(公告)号: CN107516657B 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: 朱天志 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 智云
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种新型ESD保护结构及其实现方法,该新型ESD保护结构包括:半导体基体;生成于所述半导体基体中的第一N阱和第二N阱;设置于所述第一N阱中的硅控整流器以及设置于所述第二N阱中的二极管结构,通过本发明,可增加ESD保护结构回滞效应的维持电压。
搜索关键词: 一种 新型 esd 保护 结构 及其 实现 方法
【主权项】:
1.一种新型ESD保护结构,其特征在于,该ESD保护结构包括:半导体基体(80);生成于所述半导体基体中的第一N阱(60)和第二N阱(70);设置于所述第一N阱中的硅控整流器以及设置于所述第二N阱中的二极管结构,第一高浓度P型掺杂(28)、第一高浓度N型掺杂(20)、第二高浓度N型掺杂(22)相隔离设置于所述第一N阱上部,P型ESD植入层(40)设置于所述第二高浓度N型掺杂(22)下方,所述第一高浓度P型掺杂(28)、第一N阱、ESD植入层(40)、第二高浓度N型掺杂(22)构成所述硅控整流器,所述第一高浓度N型掺杂(20)与第一高浓度P型掺杂(28)相连组成该新型ESD保护结构的阳极A。
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