[发明专利]光学微影系统在审

专利信息
申请号: 201710641484.1 申请日: 2017-07-31
公开(公告)号: CN108227391A 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 林华泰;杨育铨;梁文达;陈庆煌;孙启元;王士哲 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 李昕巍;章侃铱
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种光学微影系统,包含:一基底台,用以承载一工件;以及一罩幕,具有多个主要图形与多个次解析辅助图形(sub‑resolution assistant pattern)。此系统还包含一绕射光学元件(diffractive optical element;DOE),用以将具有上述主要图形的一空中影像(aerial image)的辐射导引至上述工件上。上述绕射光学元件包含第一对的极(pole),上述第一对的极是沿着一第一方向而相对于上述绕射光学元件的中心为对称配置。上述主要图形是沿着正交于上述第一方向的一第二方向而纵向地定向,上述次解析辅助图形是沿着上述第一方向而纵向地定向。
搜索关键词: 绕射光学元件 辅助图形 光学微影 解析 对称配置 空中影像 此系统 基底台 导引 正交 承载 辐射
【主权项】:
1.一种光学微影系统,包含:一基底台,用以承载一工件;一罩幕,具有多个主要图形与多个次解析辅助图形;以及一绕射光学元件,用以将具有该些主要图形的一空中影像的辐射导引至该工件上,其中该绕射光学元件包含第一对的极,该第一对的极是沿着一第一方向而相对于该绕射光学元件的中心为对称配置;其中该些主要图形是沿着正交于该第一方向的一第二方向而纵向地定向,该些次解析辅助图形是沿着该第一方向而纵向地定向。
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