[发明专利]锥形多孔性抛光垫有效
| 申请号： | 201710645534.3 | 申请日： | 2017-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN107685295B | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | 吉田光一;宫本一隆;川端克昌;H·桑福德-克瑞;H·B·黄;G·C·雅各布;罗水源 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D11/00 | 分类号： | B24D11/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;胡嘉倩 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 多孔聚氨基甲酸酯抛光垫包含具有从基底表面向上延伸并且对抛光表面开放的大孔隙的多孔聚氨基甲酸酯基质。一系列枕块结构由包含所述大孔隙和小孔隙的所述多孔基质形成。所述枕块结构具有从顶部抛光表面向下延伸的表面以便形成从所述抛光表面成30到60度角度向下倾斜的侧壁。对所述向下倾斜的侧壁开放的大孔隙比对所述抛光表面开放的所述大孔隙垂直度更小。所述大孔隙在与所述倾斜侧壁更正交的方向上从垂直方向抵消10到60度。 | ||
| 搜索关键词： | 锥形 多孔 抛光 | ||
【主权项】：
1.一种多孔聚氨基甲酸酯抛光垫，其包括：具有从基底表面向上延伸并且对抛光表面开放的大孔隙的多孔聚氨基甲酸酯基质，所述大孔隙与小孔隙互连；一部分所述大孔隙对顶部抛光表面开放；所述大孔隙延伸到具有垂直定向的所述抛光表面；和一系列由包含所述大孔隙和所述小孔隙的所述多孔聚氨基甲酸酯基质形成的枕块结构；所述枕块结构具有从所述顶部抛光表面向下的表面以便形成从所述抛光表面成30到60度角度向下倾斜的侧壁，所述向下倾斜的侧壁从所述枕块结构的所有侧面延伸，一部分所述大孔隙对所述向下倾斜的侧壁开放，对所述向下倾斜的侧壁开放的所述大孔隙比对所述顶部抛光表面开放的所述大孔隙垂直度更小，并且在与所述向下倾斜的侧壁更正交的方向上从垂直方向抵消10到60度，其中所述垂直方向与所述抛光表面正交。
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