[发明专利]浸泡式蚀刻设备及浸泡式蚀刻方法

摘要

本发明提供一种浸泡式蚀刻设备及浸泡式蚀刻方法。本发明的浸泡式蚀刻设备包括承载台、感应器、以及蚀刻槽；所述蚀刻槽的下端和上端分别设有多个进液口和多个排液口；由进液口不断输送蚀刻液，并由排液口不断排除多余的蚀刻液，可以使得蚀刻槽内始终储有蚀刻液，并保证蚀刻槽内蚀刻液始终新鲜，从而可避免对于每一片基板都重新进行蓄液和排液，能够有效提高蚀刻效率，并且通过在蚀刻槽上端设置排液口以不断排除多余的蚀刻液，可以避免现有蚀刻设备排液时因Shutter快速打开而导致产品Mura的形成，另外，本发明通过设置用于判定蚀刻终点的感应器，相较于人眼观察，能够更加准确地判断蚀刻终点，得到最优的产品参数规格。

主权项

一种浸泡式蚀刻设备，其特征在于，包括用于承载基板(90)的承载台(10)、设于所述承载台(10)上并用于判定蚀刻终点的感应器(20)、以及设于所述承载台(10)下方用于容纳蚀刻液和基板(90)的蚀刻槽(30)；所述蚀刻槽(30)的下端设有多个用于向蚀刻槽(30)内输送蚀刻液的进液口(301)，所述蚀刻槽(30)的上端设有多个用于排出蚀刻槽(30)内多余蚀刻液的排液口(302)；所述承载台(10)通过沿垂直方向上下移动，带动基板(90)一起进入蚀刻槽(30)内的蚀刻液中以开始蚀刻，或带动基板(90)从蚀刻槽(30)内的蚀刻液中离开以停止蚀刻。